2025
09-03
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美国投行给中国光刻机落后ASML 20年原因：缺乏制造先进光刻扫描仪能力 NEW
快科技9月3日消息，昨天美国知名的投行高盛给出观点称，中国先进芯片制造业落后西方技术20年。投资银行高盛认为，中国光刻机公司至少落后美国同行20年。光刻技术是半导体制造的几个环节之一，也是阻碍中国制造高端芯片的唯一瓶颈。最先进的光刻机由荷兰公司ASML制造，由于其依赖美国原产的零部件，美国政府有权限制其对华销售。美国投行给中国光刻机落后ASML 20年原因：缺乏制造先进光刻扫描仪能力在高盛看来，美国对中芯国际施加制裁，限制其采购极紫外 (EUV) 芯片制造光刻机，这意味着中芯...
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快科技9月2日消息，近些年，我国在半导体芯片领域不断努力追赶，但差距依旧比较大，也是被卡脖子最严重的科技产业。根据著名投资银行高盛最新发布的报告，他们认为中国的国产光刻机只能生产65nm工艺的芯片，相比国际巨头ASML落后足足有大约20年！高盛称，虽然中芯国际已经可以生产7nm工艺芯片，但极有可能还是利用了ASML比较老旧的DUV深紫外光刻机，因为中国还不具备制造这种设备的能力，更别提ASML已经发展了两代EUV极紫外光刻机。目前，ASML最新的High-NA EUV光刻机已...